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產(chǎn)品詳情
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鎢燈絲掃描電鏡

描述:鎢燈絲掃描電鏡 SEM2000是一款基礎(chǔ)款的多功能分析型鎢燈絲掃描電鏡。20?kV分辨率可以做到3.9?nm,支持升級(jí)30?kV電壓,可觀察亞微級(jí)尺度樣品的微觀結(jié)構(gòu)信息。擁有比臺(tái)式電鏡更大的移動(dòng)范圍,適用于快速篩選待測(cè)樣品,更多的擴(kuò)展接口,可搭載BSED、EDS等附件,使應(yīng)用領(lǐng)域更廣。

更新時(shí)間:2025-04-02
訪問次數(shù):1406
廠商性質(zhì):代理商
詳情介紹
產(chǎn)品特點(diǎn)
簡(jiǎn)潔的操作界面

*軟件界面僅供參考

純中文的操作界面

功能設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單易操作。符合國(guó)人使用習(xí)慣,即使是新手用戶,簡(jiǎn)單了解后也能快速上手。

完善的自動(dòng)化功能

自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散,均可一鍵調(diào)節(jié),提高工作效率。

豐富的測(cè)量工具

長(zhǎng)度、面積、圓度、角度等測(cè)量功能強(qiáng)大的照片管理和預(yù)覽、編輯功能。

特色功能

光學(xué)導(dǎo)航

想看哪里點(diǎn)哪里,導(dǎo)航更輕松

標(biāo)配光學(xué)導(dǎo)航攝像頭,可拍攝高清樣品臺(tái)照片,快速定位樣品。

防撞設(shè)計(jì)

對(duì)新手更友好的防碰撞設(shè)計(jì),最大限度保護(hù)敏感單元。

一鍵成像

*軟件一鍵成像,新手也能輕松駕馭。

分析距離

最佳分析距離和成像距離二合一,輕松體驗(yàn)優(yōu)質(zhì)性能。

多種信息同時(shí)成像

SEM2000軟件支持一鍵切換SE和BSE的混合成像??赏瑫r(shí)觀察到樣品的形貌信息和成分信息。

分辨率指標(biāo)

SE:3.9 nm @20 kV

BSE:4.5 nm @ 20 kV

豐富的擴(kuò)展性

高靈敏度背散射探測(cè)器

· 多通道成像

探測(cè)器設(shè)計(jì)精巧,靈敏度高,采用4分割設(shè)計(jì),無需傾斜樣品,可獲得不同方向的陰影像以及成分分布圖像。

四個(gè)單通道的陰影像

成分像

· 二次電子成像和背散射電子成像對(duì)比

背散射電子成像模式下,荷電效應(yīng)明顯減弱,并且可以獲得樣品表面更多的成分信息。

鐵礦石-(SE)

鐵礦石-(BSE)

能譜

金屬夾雜物能譜面掃分析結(jié)果。

電子背散射衍射

鎢燈絲電鏡束流大,滿足高分辨EBSD的測(cè)試需求,能夠?qū)饘?、陶瓷、礦物等多晶材料進(jìn)行晶體取向標(biāo)定以及晶粒度大小等分析。 該圖為Ni金屬標(biāo)樣的EBSD反極圖,能夠識(shí)別晶粒大小和取向,判斷晶界和孿晶,對(duì)材料組織結(jié)構(gòu)進(jìn)行精確判斷。

應(yīng)用案例

新米胚乳淀粉顆粒顯微結(jié)構(gòu)

加速電壓:10 kV / 放大倍率:×5000

加速電壓:1 kV / 放大倍率:×2000

纖維截面

加速電壓:7 kV / 放大倍率:×1000

高分子透鏡陣列

加速電壓:15 kV / 放大倍率:×200

載催化劑鎳網(wǎng)

加速電壓:20 kV / 放大倍率:×200

仲鎢酸銨

加速電壓:5 kV / 放大倍率:×1000

MnS夾雜

加速電壓:15 kV / 放大倍率:×500

金屬斷口

加速電壓:20 kV / 放大倍率:×200

負(fù)極碳包硅

加速電壓:10 kV / 放大倍率:×3000

干法拉伸薄膜

加速電壓:3 kV / 放大倍率:×5000

磷酸鐵鋰

加速電壓:15 kV / 放大倍率:×5000

鈷酸鋰

加速電壓:15 kV / 放大倍率:×5000

PCB板

加速電壓:10 kV / 放大倍率:×100

PCB板(車燈)

加速電壓:10 kV / 放大倍率:×100

銅箔生箔

加速電壓:10 kV / 放大倍率:×10000

芯片

加速電壓:15 kV / 放大倍率:×500

紅翅鶴頂粉蝶

加速電壓:3 kV / 放大倍率:×5000

密蒙花中藥顆粒

加速電壓:3 kV / 放大倍率:×2000

槲寄生中藥原粉

加速電壓:3 kV / 放大倍率:×2000

片球菌屬

加速電壓:15 kV / 放大倍率:×30000

產(chǎn)品參數(shù)
電子光學(xué)系統(tǒng)電子槍類型預(yù)對(duì)中型發(fā)叉式鎢燈絲電子槍
分辨率3.9 nm @ 20 kV(SE)
4.5 nm @ 20 kV(BSE)
放大倍率1 x~300,000 x
加速電壓0.5 kV~20 kV
成像系統(tǒng)探測(cè)器二次電子探測(cè)器(ETD)
*背散射電子探測(cè)器、*能譜儀EDS等
圖像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG
真空系統(tǒng)高真空優(yōu)于5×10-4 Pa
控制方式全自動(dòng)控制
機(jī)械泵×1,分子泵×1
樣品室攝像頭光學(xué)導(dǎo)航
樣品臺(tái)配置兩軸自動(dòng)
行程X: 100 mm
Y: 100 mm
軟件語言中文
操作系統(tǒng)Windows
導(dǎo)航光學(xué)導(dǎo)航、手勢(shì)快捷導(dǎo)航
自動(dòng)功能自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散
特色功能智能輔助消像散、大圖拼接(選配軟件)
安裝要求房間長(zhǎng) ≥ 3000 mm,寬 ≥ 4000 mm,高 ≥ 2300 mm
溫度20 ℃~25 ℃
濕度≤ 50 %
電氣參數(shù)電源AC 220 V(±10 %),50 Hz,2 kVA





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